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| 稀土拋光粉-拋光粉之王 | |
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| 1.2稀土拋光粉的組成及分類 1.2.1以稀土拋光粉中CeO2量來劃分： 稀土拋光粉的主要成分是CeO2,據其CeO2量的高低可將鈰拋光粉分為兩大類：一類是CeO2含量高的價高質優(yōu)的高鈰拋光粉，一般CeO2/TREO≥80%,另一類是CeO2含量低的廉價的低鈰拋光粉，其鈰含量在50%左右，或者低于50%,其余由La2O3,Nd2O3,Pr6O11組成。 對于高鈰拋光粉來講，氧化鈰的品位越高，拋光能力越大，使用壽命也增加，特別是硬質玻璃長時間循環(huán)拋光時（石英、光學鏡頭等），以使用高品位的鈰拋光粉為宜。低鈰拋光粉一般含有50%左右的CeO2,其余50%為La2O3?SO3,Nd2O3?SO3,Pr6O11?SO3等堿性無水硫酸鹽或LaOF、NdOF、PrOF等堿性氟化物，此類拋光粉特點是成本低及初始拋光能力與高鈰拋光粉比幾乎沒有兩樣，因而廣泛用于平板玻璃、顯像管玻璃、眼鏡片等的玻璃拋光，但使用壽命難免要比高鈰拋光粉低。 1.2.2以稀土拋光粉的大小及粒度分布來劃分： 稀土拋光粉的粒度及粒度分布對拋光粉性能有重要影響。 對于一定組分和加工工藝的拋光粉，平均顆粒尺寸越大，則玻璃磨削速度和表面粗糙度越大。在大多數情況下，顆粒尺寸約為4μm的拋光粉磨削速度最大。相反地，如果拋光粉顆粒平均粒度較小，則磨削量減少，磨削速度降低，玻璃表面平整度提高，標準拋光粉一般有較窄的粒度分布，太細和太粗的顆粒很少，無大顆粒的拋光粉能拋光出高質量的表面，而細顆粒少的拋光粉能提高磨削速度。此外，稀土拋光粉也可以根據其添加劑的不同種類來劃分，稀土拋光粉生產技術屬于微粉工程技術，稀土拋光粉屬于超細粉體，國際上一般將超細粉體分3種：納米級（1nm~100nm）；亞微米級（100nm~1μm）；微米級（1μm~100μm），據此分類方法，稀土拋光粉可以分為：納米級稀土拋光粉、亞微米級稀土拋光粉及微米級稀土拋光粉3類，通常我們使用的稀土拋光粉一般為微米級，其粒度分布在1μm~10μm之間，稀土拋光粉根據其物理化學性質一般使用在玻璃拋光的最后工序，進行精磨，因此其粒度分布一般不大于10μm,粒度大于10μm的拋光粉（包括稀土拋光粉）大多用在玻璃加工初期的粗磨。小于1μm的亞微米級稀土拋光粉，由于在液晶顯示器與電腦光盤領域的應用逐漸受到重視，產量逐年提高。納米級稀土拋光粉目前也已經問世，隨著現代科學技術的發(fā)展，其應用前景不可預測，但目前其市場份額還很小，屬于研發(fā)階段。 |
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| 關鍵字:稀土 | |
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