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面缺陷的詳述及分類
http://www.elbaloto.com 時(shí)間:2009/3/18 15:14:01 來(lái)源:本站原創(chuàng) 點(diǎn)擊次數(shù):1209

  涉及較大范圍(二維方向)、晶界、晶面、堆垛層錯(cuò)。

 

  1. 晶面:由于晶體表面處的離子或原子具有不飽和鍵,有很大反應(yīng)活性,表面結(jié)構(gòu)出現(xiàn)不對(duì)稱性,使點(diǎn)陣受到很大彎曲變形,因而能量比內(nèi)部能量高,是一種缺陷。

 

  2. 晶界:晶粒之間交界面,晶粒間取向不同出現(xiàn)晶粒間界,在晶粒界面上的排列是一種過(guò)渡狀態(tài)與兩晶粒都不相同。

 

  1)小角度晶界(鑲嵌塊)

 

  尺寸在10-6-10-8m的小晶塊,彼此間以幾秒到 的微。 )角度傾斜相交,形成鑲嵌結(jié)構(gòu),有人認(rèn)為是棱位錯(cuò),由于晶粒以微小角度相交,可以認(rèn)為合并在一起,在晶界面是形成了一系列刃型位錯(cuò)。

 

  2)大角度晶界,各晶面取向互不相同,交角較大,在多晶體中,晶體可能出現(xiàn)大角度晶界。在這種晶界中,頂點(diǎn)排列接近無(wú)序狀態(tài),晶界處是缺陷位置,所以能量較高,可吸附外來(lái)質(zhì)點(diǎn)。晶界是原子或離子擴(kuò)散的快速通道,也是空位消除的地方,這種特殊作用對(duì)固相反應(yīng),燒結(jié)起重要作用,對(duì)陶瓷、耐火材料等多晶材料性能如蠕變、強(qiáng)度等力學(xué)性能和極化、損耗等介電性能影響較大。

 

  3. 堆垛層錯(cuò)

 

  離子堆垛過(guò)程中發(fā)生了層次錯(cuò)動(dòng),出現(xiàn)堆垛層錯(cuò),如面心立方堆積形式為ABCABCA……→ABCACBABC中間的B層和C層發(fā)生了層次錯(cuò)動(dòng),出現(xiàn)缺陷(一般了解)

 

  非化學(xué)計(jì)量化合物

 

  定義:化合物中各元素的原子數(shù)之比不是簡(jiǎn)單的整數(shù)而出現(xiàn)了分?jǐn)?shù),如Fe1-xO,Cu2-xO,Co1-xO等。

[1]

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