主要設(shè)備有：煅燒爐，水淬槽，分級(jí)器，過(guò)濾機(jī)，烘干箱。
主要指標(biāo)：產(chǎn)品中w（REO）=99%,w（CeO2）=99%;稀土回收率約95%;平均粒經(jīng)1μm~6μm（或粒度為200目~300目），晶形完好。該產(chǎn)品適用于高速拋光。這種高鈰拋光粉最早代替了古典拋光的氧化鐵粉（紅粉）。
1.4.2中鈰系稀土拋光粉的制備
用混合稀土氫氧化物（w（REO）=65%,w（CeO2）≥48%）為原料，以化學(xué)方法預(yù)處理得稀土鹽溶液，加入中間體（沉淀劑）使轉(zhuǎn)化成w（CeO2）=80%~85%的中級(jí)鈰系稀土拋光粉產(chǎn)品。其主要工藝過(guò)程為：
原料→氧化→優(yōu)溶→過(guò)濾→酸溶→沉淀→洗滌過(guò)濾→高溫煅燒→細(xì)磨篩分→中級(jí)鈰系稀土拋光粉產(chǎn)品。主要設(shè)備：氧化槽，優(yōu)溶槽，酸溶槽，沉淀槽，過(guò)濾機(jī)，煅燒爐，細(xì)磨篩分機(jī)及包裝機(jī)。
主要指標(biāo)：產(chǎn)品中w（REO）=90%,w（CeO2）=80%~85%;稀土回收率約95%;平均粒度0.4μm~1.3μm.該產(chǎn)品適用于高速拋光，比高級(jí)鈰稀土拋光粉進(jìn)行高速拋光的性能更為優(yōu)良。
1.4.3低鈰系稀土拋光粉的制備
以少銪氯化稀土（w（REO）≥45%,w（CeO2）≥48%）為原料，以合成中間體（沉淀劑）進(jìn)行復(fù)鹽沉淀等處理，可制備低級(jí)鈰系稀土拋光粉產(chǎn)品。其主要工藝過(guò)程為：
原料→溶解→復(fù)鹽沉淀→過(guò)濾洗滌→高溫煅燒→粉碎→細(xì)磨篩分→低級(jí)鈰系稀土拋光粉產(chǎn)品。
主要設(shè)備：溶解槽，沉淀槽，過(guò)濾機(jī)，煅燒爐，粉碎機(jī)，細(xì)磨篩分機(jī)。主要指標(biāo)：產(chǎn)品中w（REO）=85%~90%,w（CeO2）=48%~50%;稀土回收率約95%;平均粒徑0.5μm~1.5μm（或粒度320目~400目）。該產(chǎn)品適合于光學(xué)玻璃等的高速拋光之用。用混合型的氟碳鈰礦高品位稀土精礦（w（REO）≥60%,w（CeO2）≥48%）為原料，直接用化學(xué)和物理的方法加工處理，如磨細(xì)、煅燒及篩分等可直接生產(chǎn)低級(jí)鈰系稀土拋光粉產(chǎn)品。上一頁(yè) [1] [2] [3] [4] [5] [6] 下一頁(yè) |
